1.打开真空泵和基因枪的电源开关； 2.打开氦气瓶阀门，旋转氦气调节杆，使气压高于所选可裂万压力200psi 左右； 3.旋下可裂膜挡盖，将可裂膜放在挡盖中央，将挡盖旋上，用专用板水平加固； 4.将微粒发射装置移出轰击室，旋下盖子，放入阻挡网，把微粒载片安装在固定槽中（有微粒的一面朝下），旋上盖子，将发射装置放回轰击室； 5.将样品盘放置在轰击室的适当位置，关上轰击室门； 6．按VAC开关（上档）抽真空，当表上读数为所需值时，开关打到HOLD（下档），然后按住FIER开关，当达到适当压力可裂膜自动破裂，松开FIER开关； 7.开关打到VENT(中间档)，以释放轰击室内的真空； 8.打开轰击室门，取出样品盘； 9.取出微粒发射装置，卸下微粒载膜和阻挡网（阻挡网和微粒载膜放入70%的酒精浸泡）； 10.旋下可裂膜档盖，清除可裂膜碎片； 11.若PDS-1000基因枪不再使用，关掉氦气瓶的主阀，按住FIER开关，按住FIE开关，放掉气体加速管内的氦气压力，最后关掉全部电源。 |
